Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造專業(yè)人才，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。多材料微納打印推動(dòng)柔性電子器件發(fā)展。寶山區(qū)芯片上微納3D打印設(shè)備

微納3D打印技術(shù)的優(yōu)勢主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：高精度和復(fù)雜性：微納3D打印技術(shù)可以在微米和納米尺度上實(shí)現(xiàn)高精度的打印，能夠制造出具有復(fù)雜幾何形狀和微觀結(jié)構(gòu)的零件。這種能力使得微納3D打印在生物醫(yī)學(xué)、電子、光學(xué)和航空航天等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。特別是在需要高精度和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的器件制造中，微納3D打印技術(shù)展現(xiàn)出了獨(dú)特的優(yōu)勢。定制化設(shè)計(jì)：微納3D打印技術(shù)可以根據(jù)用戶需求進(jìn)行定制化設(shè)計(jì)，滿足個(gè)性化需求。設(shè)計(jì)師可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場景，靈活調(diào)整打印參數(shù)和材料，實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新設(shè)計(jì)。這種定制化設(shè)計(jì)的能力使得微納3D打印在特殊材料和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的制造中具有很高的靈活性。材料利用率高：與傳統(tǒng)的加工方法相比，微納3D打印技術(shù)的材料利用率更高。在打印過程中，只有需要的材料才會(huì)被使用，從而避免了不必要的浪費(fèi)。這不僅有助于降低生產(chǎn)成本，還能提高生產(chǎn)效率，減少對(duì)環(huán)境的影響。廣泛的應(yīng)用范圍：微納3D打印技術(shù)適用于多種材料和結(jié)構(gòu)類型，可以制造金屬、塑料、陶瓷等多種材料的微納結(jié)構(gòu)。這使得它在微機(jī)電系統(tǒng)、微納光學(xué)器件、微流體器件、生物**和組織工程、新材料等領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用潛力。此外。閔行區(qū)高精度微納3D打印制造價(jià)格隨著技術(shù)成熟，微納3D打印將在航空航天、電子封裝等領(lǐng)域展現(xiàn)更大潛力。

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達(dá)到上限的微納3D打印機(jī)。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合，適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級(jí)別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用。我們的客戶成功將微納光學(xué)結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實(shí)現(xiàn)從邊緣到表面的全方面耦合。

雙光子聚合（2PP）是一種可實(shí)現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能：首先，在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級(jí)打??；其次制作高達(dá)50毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu)，適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。QuantumXshape帶有獨(dú)特的自動(dòng)界面查找功能，可以以低至30納米的精度檢測基板表面。這種在比較高掃描速度下的納米級(jí)精度體現(xiàn)，再加上自校準(zhǔn)程序，可在特別短的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)可靠和準(zhǔn)確的打印，為3D微納加工樹立了新榜樣。這些優(yōu)異的性能使QuantumXshape成為快速原型制作和應(yīng)用于微納光學(xué)、微流體、材料表面工程、MEMS等其他領(lǐng)域中晶圓級(jí)規(guī)模生產(chǎn)的理想工具。微納3D打印技術(shù)，助您實(shí)現(xiàn)精密制造，歡迎咨詢納糯三維專業(yè)團(tuán)隊(duì)。

為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性，科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力。一方面，利用SCRIBE新技術(shù)的情況下，高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對(duì)打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度。另一方面，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進(jìn)一步的可能。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān)，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化。微納尺度3D打印，精確高效，納糯三維期待與您合作。虹口區(qū)灰度光刻微納3D打印哪家強(qiáng)

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Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。寶山區(qū)芯片上微納3D打印設(shè)備